完全片側性口唇口蓋裂における鼻中隔変形の一次矯正が頭蓋顔面形態に及ぼす影響

Effect of primary correction of nasal septal deformity in complete unilateral cleft lip and palate on the craniofacial morphology.

抄録

目的:

片側完全口唇口蓋裂における口唇修復時に鼻中隔を一次矯正することが頭蓋顔面形態に及ぼす長期的影響を評価すること。

PURPOSE: To assess the long-term effect of primary correction of the nasal septum during lip repair in unilateral complete cleft lip and palate on the craniofacial morphology.

材料、被験者、方法:

研究材料は、7～22歳で撮影された54枚の側方セファログラムからなり、その内訳は、口唇閉鎖時に鼻中隔の一次矯正を行った研究グループの患者（7～14歳）のセファログラム28枚と、中隔矯正を行わずに手術を行った対照グループの患者（12～22歳）のセファログラム26枚である。すべてのセファログラムは、骨格、歯、軟組織の関係について分析された。データの分布はShapiro-Wilk検定（α = 0.05）を用いてチェックした。正規分布の値の比較にはStudent t-検定、後者にはMann-Whitney検定が用いられた。

MATERIAL, SUBJECTS, METHODS: The study material consisted of 54 lateral cephalograms made at the ages 7-22, including 28 cephalograms of patients from a study group (aged 7-14 years) after a primary correction of the nasal septum during lip closure and 26 cephalograms of patients from a control group (aged 12-22 years) operated on without septal correction. All cephalograms have been analysed with regard to skeletal, dental and soft-tissue relationships. Data distribution has been checked using Shapiro-Wilk test (α = 0.05). Student t-test was used to compare values of normal distribution and for the latter - Mann-Whitney test.

結果:

研究グループと対照グループ間のすべてのセファロ測定値の比較は、H（p = 0.0267）、1+、NB角（p = 0.0267）のみ統計的に有意な差（α = 0.05）を明らかにした：NB角度（p = 0.0175）および1+：NA（mm）（p＝0.0249）であった。言及した3つのセファロ測定値のそれぞれは、対照群よりも研究群で大きかった。

RESULTS: The comparison of all cephalometric values between the study and control groups revealed a statistically significant (α = 0.05) difference only for H (p = 0.0267), 1+: NB angle (p = 0.0175) and 1+: NA (mm) (p = 0.0249). Each of the three cephalometric measurements mentioned were greater in the study than in the control group.

結論:

鼻中隔一次矯正が上顎の発育に及ぼす悪影響は、研究グループには認められなかった。

CONCLUSION: No negative effect from the primary nasal septum correction on maxillary development could be found in the study group.