歯科インプラントの副鼻腔への露出が生存率と合併症率に及ぼす影響：システマティックレビュー

Influence of exposing dental implants into the sinus cavity on survival and complications rate: a systematic review.

抄録

背景:

歯を失った後の上顎後面は、上顎洞の空洞化や歯槽骨の崩壊により骨高が制限され、多くの場合インプラントの設置が不可能となるのが特徴である。骨高さの不足を補うために、いくつかの治療法が提案されている。これらの治療法は、Schneider膜の穿孔を避け、骨移植材を使用する、または使用しないインプラントの設置を目的としたものです。しかしながら、膜の穿孔はこれらの治療法の中で最も一般的な合併症である。そこで、本総説では、この現象がインプラントの生存期間や合併症に及ぼす影響を明らかにすることを目的とした。

BACKGROUND: After tooth loss, the posterior maxilla is usually characterized by limited bone height secondary to pneumatization of the maxillary sinus and/or collapse of the alveolar ridge that preclude in many instances the installation of dental implants. In order to compensate for the lack of bone height, several treatment options have been proposed. These treatment alternatives aimed at the installation of dental implants with or without the utilization of bone grafting materials avoiding the perforation of the Schneiderian membrane. Nevertheless, membrane perforations represent the most common complication among these procedures. Consequently, the present review aimed at the elucidation of the relevance of this phenomenon on implant survival and complications.

材料と方法:

MEDLINE、EMBASE、Cochrane Oral Health Group Trials Registerなどの複数のデータベースにおいて、再生処置（ラテラルサイナスリフトまたは経乳頭法）および移植材なしでサイナス床に穿孔するインプラント埋入の転帰を報告する2018年1月までの論文について、独立した2名の審査員により電子および手動の文献検索が実施されました。インプラントの侵入は、パンチアウト・シュナイダーの有無にかかわらず、ドリリングまたはインプラント埋入時に発生する可能性がある。定性的評価には、少なくとも6ヶ月のフォローアップが行われた研究のみが含まれる。

MATERIAL AND METHODS: Electronic and manual literature searches were performed by two independent reviewers in several databases, including MEDLINE, EMBASE, and Cochrane Oral Health Group Trials Register, for articles up to January 2018 reporting outcome of implant placement perforating the sinus floor without regenerative procedure (lateral sinus lift or transalveolar technique) and graft material. The intrusion of the implants can occur during drilling or implant placement, with and without punch out Schneiderian. Only studies with at least 6 months of follow-up were included in the qualitative assessment.

結果:

8つの研究が生存率に関する情報を提供し、493のインプラ ントがグローバルサンプルとなり、52.7ヶ月の追跡調査後の加重 平均生存率は95.6％（IC95％）となった。インプラントの刺入度（4mm以下または4mm以上）は、生存率に統計的な有意差を認めなかった（p＝0.403）。7つの研究が臨床的合併症の発生率に関する情報を提供しており、平均合併症発生率は3.4％（IC95％）であった。最も頻度の高い臨床的合併症は鼻出血であり，侵入レベルによる有意差は認められなかった。X線写真上の合併症については5件の研究があり，最も多い合併症はSchneiderian membraneの肥厚であった。合併症の発生率は14.8％（IC95％）であり、インプラントが4mm以下に挿入されている場合は5.29％、4mm以上に挿入されている場合は29.3％と、挿入レベルがX線写真の合併症発生率に影響するが、統計的に有意差は認められなかった（p＝0.301）。

RESULTS: Eight studies provided information on the survival rate, with a global sample of 493 implants, being the weighted mean survival rate 95.6% (IC 95%), after 52.7 months of follow-up. The level of implant penetration (≤ 4 mm or > 4 mm) did not report statistically significant differences in survival rate (p = 0.403). Seven studies provided information on the rate of clinical complications, being the mean complication rate 3.4% (IC 95%). The most frequent clinical complication was epistaxis, without finding significant differences according to the level of penetration. Five studies provide information on the radiographic complication; the most common complication was thickening of the Schneiderian membrane. The weighted complication rate was 14.8% (IC 95%), and penetration level affects the rate of radiological complications, being these of 5.29% in implant penetrating ≤4 mm and 29.3% in implant penetrating > 4 mm, without reaching statistical significant difference (p = 0.301).

結論:

副鼻腔に埋入したインプラントの全生存率は95.6％であり、侵入の程度による統計的な差は認められなかっ た。臨床的および放射線学的合併症はそれぞれ3.4%と14.8%であった．臨床的合併症として最も多かったのは鼻出血であり，放射線学的合併症はSchneider膜の肥厚であったが，副鼻腔内へのインプラントの進入レベルによる統計的有意差は認められなかった．

CONCLUSION: The overall survival rate of the implants into the sinus cavity was 95.6%, without statistical differences according to the level of penetration. The clinical and radiological complications were 3.4% and 14.8% respectively. The most frequent clinical complication was the epistaxis, and the radiological complication was thickening of the Schneiderian membrane, without reaching statistical significant difference according to the level of implant penetration inside the sinus.