SEMとTEMにおける配向マッピングの比較

Comparison of Orientation Mapping in SEM and TEM.

• Joshua D Sugar
• Joseph T McKeown
• Dhego Banga
• Joseph R Michael

抄録

ナノスケールの配向マッピングを行うための複数の実験構成を比較し、試料の真の微細構造に対する忠実度を決定した。走査型電子顕微鏡（SEM）での透過型菊池回折（TKD）実験と透過型電子顕微鏡（TEM）でのナノビーム回折（NBD）実験を、2つの異なる微細構造を持つ金薄膜電着硬質金膜に対して行った。Ａｕサンプルは、５０ｎｍを超える粒径または２０ｎｍ未満の粒径のいずれかを有していた。試料の同じ領域をTKD装置を用いて30kVで、検出器を水平と垂直に配置したSEMと300kVでのTEMで測定した。適切な条件の下では、3つの構成すべてが同等の品質のデータを生成できることを実証しています。それぞれの方法には、その応用と真の微細構造の表現に関連した長所と課題がある。各手法の高品質なデータを得るために必要な条件と、それぞれの課題について議論する。

Multiple experimental configurations for performing nanoscale orientation mapping are compared to determine their fidelity to the true microstructure of a sample. Transmission Kikuchi diffraction (TKD) experiments in a scanning electron microscope (SEM) and nanobeam diffraction (NBD) experiments in a transmission electron microscope (TEM) were performed on thin electrodeposited hard Au films with two different microstructures. The Au samples either had a grain size that is >50 or <20 nm. The same regions of the samples were measured with TKD apparatuses at 30 kV in an SEM with detectors in the horizontal and vertical configurations and in the TEM at 300 kV. Under the proper conditions, we demonstrate that all three configurations can produce data of equivalent quality. Each method has strengths and challenges associated with its application and representation of the true microstructure. The conditions needed to obtain high-quality data for each acquisition method and the challenges associated with each are discussed.