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TGFβ3ノックアウトマウスの口蓋裂の表現型には遺伝的背景が影響している
Genetic background influences the capacity for medial edge epithelium disintegration and phenotype of cleft palate in TGFβ3 knockout mice.
PMID: 32603777 DOI: 10.1016/j.job.2020.06.002.
抄録
目的:
口蓋裂は、原因不明の頻発する先天性頭蓋顔面奇形です。変形成長因子(TGF)β3は口蓋棚融合に必要である。TGFβ3ノックアウト(KO)マウスは口蓋裂のモデルとして広く用いられているが、口蓋裂の表現型はマウス間で異なる。本研究では、マウスの口蓋裂表現型に及ぼす遺伝的背景の影響を明らかにすることを目的としました。
OBJECTIVES: Cleft palate is a frequent congenital craniofacial malformation of unknown etiology. Transforming growth factor (TGF) β3 is required for palatal shelf fusion. Although TGFβ3 knockout (KO) mice are widely used mouse models for cleft palate, cleft palate phenotypes differ among these mice. This study aimed to determine the effects of genetic background on the cleft palate phenotype in mice.
方法:
5種類の遺伝的背景を持つTGFβ3 KO先天性マウスを作製した。これらの先天性系統の表現型は、目視検査により決定した。5匹のマウス全系統の口蓋棚の内縁上皮(MEE)と基底膜(BM)の崩壊能を、単一口蓋棚懸濁培養後の免疫蛍光染色を用いて解析した。また、表現型とMEEおよびBMの消失との関係を解析した。
METHODS: We produced TGFβ3 KO congenic mouse strains with five different genetic backgrounds. The phenotypes of the congenic strains were determined by visual examination. The capacity for disintegration of the medial edge epithelium (MEE) and basement membrane (BM) of palatal shelves of all five mouse strains was analyzed by using immunofluorescence staining after single palatal shelf suspension culture. The relationship between phenotype and disappearance of the MEE and BM was analyzed.
結果:
5 つの先天性系統は同じ欠損 Tgfb3 遺伝子を持っていたが、胎児の口蓋表現型は系統間で異なっていた。また,MEE細胞やBMの喪失も遺伝的背景によって異なり,その程度は口蓋裂の表現型と相関していた。
RESULTS: Although the five congenic strains carried the same defective Tgfb3 gene, the fetal palate phenotypes differed among strains. The loss of the MEE cells and BM also differed with the genetic background, and the degree of such loss correlated with the cleft palate phenotype.
結論:
マウスの口蓋裂の表現型は遺伝的背景に影響され、MEEとBM崩壊の能力を支配している。
CONCLUSIONS: The cleft palate phenotype in mice is influenced by the genetic background, which governs the capacity for MEE and BM disintegration.
Copyright © 2020. Published by Elsevier B.V.