上顎洞膜穿孔の管理と同時インプラント埋入。2 症例の報告

Management and simultaneous implant placement of maxillary sinus membrane perforation: A report of two cases.

• Mangesh Phadnaik
• Ripunjay Kumar Tripathi
• Meghna Nigam
• Ankit Solanki
• Vaibhav Karemore

抄録

長年の無歯顎後顎のリハビリテーションには、歯科用インプラントを用いたユニークな課題がある。これは主に2つの理由によるもので、上顎洞の肺炎化と歯槽骨の萎縮である。在来骨が2～3mm程度になると、この問題はさらに深刻になります。そのためには、ダイレクトサイナスリフト/側壁サイナスリフト術という形での垂直方向の骨の補強が必要になります。この方法では、最も一般的な合併症として、洞膜の穿孔があり、グラフトの安定性と骨の再生が悪くなります。このような状況では、同時にインプラントを埋入することは非常に困難です。その結果、インプラント埋入を延期せざるを得なくなり、治療期間の延長や複数回の手術予約が必要となります。本症例は、このような副鼻腔膜穿孔修復術において、上顎後面にインプラントを同時埋入し、側壁骨切り術で副鼻腔を拡張した2例を報告するものである。

Rehabilitation of the long-standing edentulous posterior maxilla with dental implant poses a unique challenge. This is due to mainly two reasons - pneumatization of the maxillary sinus and atrophy of the alveolar bone. The challenge is intensified when the native bone is around 2-3 mm. This requires vertical bone augmentation in the form of direct sinus lift/lateral wall sinus lift procedure. The most common complication associated with this procedure is the sinus membrane perforation resulting in unfavorable stabilization of the graft and associated bone regeneration. Simultaneous implant placement becomes all the more difficult in such situations. As a result, of which implant placement has to be deferred resulting in extended treatment duration and multiple surgical appointments. The present case report represents two such sinus membrane perforation repair cases associated with lateral wall osteotomy approach for sinus augmentation with simultaneous implant placement in the posterior maxilla.

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